Bruxelles, 29/09/2010 (Agence Europe) - La Commission européenne a autorisé, mercredi 29 septembre, l'État néerlandais à verser à la société Mapper Lithography B.V 15,6 millions d'euros en prêts à taux réduit et 5,7 millions euros en aide directe, afin de l'aider à développer la lithographie par faisceau d'électrons. Cette technologie représente une voie de recherche innovante qui pourrait permettre à l'industrie mondiale des semi-conducteurs de continuer à améliorer les performances des microcircuits intégrés. La Commission a dès lors conclu que les effets positifs de la mesure l'emporteraient sur les éventuelles distorsions de concurrence qui pourraient en résulter. Elle est, par ailleurs, compatible avec les dispositions existantes en matière de recherche, développement et d'innovation de l'UE. Sans elle, Mapper n'aurait pas été capable de réaliser ce projet de R&D car le marché privé du capital-risque n'a pas apporté un financement suffisant à ce projet prometteur mais risqué. L'aide est limitée au minimum nécessaire. Une partie de l'aide sera versée après l'approbation définitive de la Commission, tandis que l'autre partie a déjà été octroyée, fin 2007, conformément aux étapes du projet. (I.L.)