Bruxelles, 05/11/2001 (Agence Europe) - La Commission européenne a autorisé le gouvernement néerlandais à accorder d'importantes subventions à ASML, une entreprise néerlandaise de lithographie, en faveur de deux projets baptisés EXTATIC et FLUOR. La lithographie constitue la partie de la production de puces électroniques au cours de laquelle des éléments électroniques ultrafins sont créés par l'exposition de matériaux photorésistants à la lumière. Les projets bénéficieront jusqu'au 31 décembre 2004 au plus tard d'une aide de 54,5 millions d'euros par projet, pour un coût total de 464,7 millions d'euros. Ils sont financés par la contribution des Pays-Bas au programme MEDEA+, approuvé par la Commission en février 2001. Ce programme paneuropéen, qui s'inscrit dans le cadre du projet EUREKA, a été mis en oeuvre à l'initiative de l'industrie en faveur de projets de coopération en recherche-développement de pointe dans le domaine de la micro-électronique. La Commission a considéré qu'il était improbable que les projets en question voient le jour à la même vitesse et à la même ampleur sans l'aide en question. Compte tenu de l'importance technologique considérable qu'ils peuvent engendrer et des bénéfices qu'ils peuvent apporter à d'autres secteurs industriels, d'une part, et les risques techniques et financiers auxquels ils sont exposés, d'autre part, la Commission a estimé que l'aide aura un effet d'incitation évident. Destinés à servir de base à une coopération internationale entre ASML et dix autres entreprises européennes et des instituts de recherche français, belges et allemands, les projets auront des résultats qui seront largement diffusés dans l'UE.